微纳光制造:对提升光子产业创新能力的意义
3D显示、虚实融合与智能驾驶、三维光刻与光子传感,柔性触控与社交终端、纳米光刻与光子芯片…
为我国多个产业上游材料与器件的变革、突破经典技术极限,提供了新路径。
激光TV幕布、miniLED/microLED匀光板、视角扩展、纳米波分复用、大口径薄膜透…
柔性光电子材料、多层光电子传感、透明显示、柔性miniLED背板、5G透明天线、薄膜成像…
光电子、显示、新材料的工程化
功能集成
1 | 超构表面功能设计:先进算法 | >8吋 |
2 | 紫外三维直写光刻系统:计算3D光刻工艺 | 50nm~50微米@110吋纳米平台 |
3 | 海量数据处理与网络协同光刻 | 百Tbit |
4 | 像素纳米光刻 | 亚纳米精度,100nm~2μm线宽@32吋 |
5 | 柔性微纳转印、套准双面纳米压印 | 1400mm门幅@5-40m/min@ 50nm~50 μm |
6 | 卷对卷纳米介质层溅射 | 膜厚6nm~200nm |
7 | 超快激光加工系统与工艺 | 深结构@110吋 |
8 | 微纳3D打印系统 | 特征结构5μm@0.25μm分辨率 |
微纳结构形貌>4维变量
纳米光子新材料设计与智能制造的途径
从平面图形迈向三维微纳形貌:光场调控与微纳结构精确光刻工艺@大面积
海量数据处理与纳米精度控制软件,打破大面积光刻技术国外垄断
复杂结构
建立规模化、对接头部企业的产业化项目,培育一批高质量创新企业。
光电子结构材料与器件产业链合作机制,在多个产业上游和国家重大工程实现应用。
高精度三维光刻、先进算法软件、纳米光刻设备,结构光电子材料与新型显示、空天观测、纳米LED,虚实融合、光子传感和集成光子芯片
微纳光制造能力:纳米结构~10nm @调控精度0.1nm,面积:12吋~120吋@数据处理能力1000Tb
参与国际科技和产业创新合作,打造规模化、有自主知识产权的重大应用成果
━ ━ ━ ━ ━