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苏州维旺科技有限公司具有世界领先的R2R(卷对卷)纳米压印生产系统。 苏州维旺同时拥有一支来自世界各地的硕士和博士研究生组成的高效研发中心, 这是一个专门为开发高精度激光光刻技术、微纳米密封压技术以及亚波长光学技术的研发团队, 由研发中心帮助公司制定具有其特点的新技术。

微光学应用中的微镜压印技术

2017-05-13

 

微光学对于200mm晶圆技术的需求日益增长。MEMS和半导体工业已有的工艺条件,几乎可以制作任意微光学器件的结构。微镜压印技术(SMILE)采用软质模板,在待压印材料上制作高质量的微镜阵列,待压印材料是8英寸玻璃基片上的紫外可固化聚合物待压印材,。该技术的典型应用是手机和小型图像传感器中使用的晶圆级照相机(WLC)。除了模板质量和材料特性外,准确的楔形误差校正和间距设定,对于压印光刻也是非常关键的。SVG MH-NanoMakerII设备提供了一个动态的楔形误差校正系统,它包含压电线性驱动器、高精度间距测量系统和接触力检测装置。采用可以进行亚微米级侧向和轴向对准精度的模板,我们已经实现了精确的双面微镜压印技术。

 

8英寸微镜模版和8英寸晶圆上压印后的微镜图形。采用MH-NanoMakerII掩模对准光刻机进行压印。
 



双面压印微镜的晶圆。采用SUSS MA8 Gen3掩模对准光刻机进行压印。




双面压印微镜的晶圆。采用MH-NanoMakerII对准光刻机进行压印。